一、什么室超純水處理設(shè)備？

傳統(tǒng)的超純水設(shè)備是電滲析、離子交換器(陽床、陰床、復(fù)床、混床)。新型半導(dǎo)體超純水設(shè)備是EDI(連續(xù)電除鹽技術(shù))設(shè)備，可以有效的去除水中幾乎全部的陰陽離子，出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)運行、無化學污染、水的利用率高，在純水設(shè)備工藝上有著強大的優(yōu)勢廣闊的應(yīng)用前景。

EDI+反滲透設(shè)備適合于工業(yè)高純水，醫(yī)用超純水，電子反滲透純水系統(tǒng),電子工業(yè)用超純水系統(tǒng),電鍍工業(yè)用超純水系統(tǒng),實驗室用超純水,食品飲料用超純水,生物工程超純水,制造業(yè)用超純水。

在晶體管和集成電路的半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于制備藥液、硅氧化的水蒸氣源、一些設(shè)備的冷卻水、制備電鍍液等。集成電路生產(chǎn)中80%的工序都需要用高純水來清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)量有很大關(guān)系。在電子元器件的生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗水和用于配制各種溶液、漿液，不同的電子元器件在生產(chǎn)中對純水和水質(zhì)的要求是不同的。

超純水處理設(shè)備主要由預(yù)處理、反滲透、EDI膜塊和后續(xù)處理裝置組成，可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細菌、金屬離子等雜質(zhì)，出水電阻率可以達到18.25兆歐以上，完全滿足電子、半導(dǎo)體、新能源行業(yè)用水需求。

二、半導(dǎo)體純水設(shè)備工藝

1、預(yù)處理+反滲透+水箱+陽床+陰床+混合床+純化水箱+純水泵+紫外線殺菌器+精制混床+精密過濾器+使用點

2、預(yù)處理+一級反滲透+加藥裝置(PH調(diào)節(jié)) +中間水箱+第二級反滲透+純化水箱+純水泵+紫外線殺菌器+0.2或0.5μm精密過濾器+使用點

3、預(yù)處理+反滲透+中間水箱+水泵+EDI裝置+純化水箱+純水泵+紫外線殺菌器+0.2或0.5μm精密過濾器-使用點

4、預(yù)處理+反滲透+中間水箱+水泵+EDI裝置+純化水箱+純水泵+紫外線殺菌器+精制拋光混床+TOC分解器+0.2或0.5μm精密過濾器+使用點(新工藝)

三、超純水處理設(shè)備優(yōu)勢

1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。

2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。

3、RO膜組件為復(fù)合膜卷制而成，表現(xiàn)出高的溶質(zhì)分離率和透過速率。

4、設(shè)備能耗低、水利用率高、運行成本低。

5、主機部件結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

6、RO膜保護系統(tǒng)，在設(shè)備開關(guān)機時，濃水側(cè)水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。

7、系統(tǒng)整體無易損部件，無須大量維修，運行長期穩(wěn)定有效。

8、超純水處理設(shè)備設(shè)計有RO膜在線清洗系統(tǒng)，在線阻垢加藥系統(tǒng)